सल्फ्यूरिक एसिड और सल्फ्यूरस एसिड के बीच अंतर

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सल्फ्यूरिक एसिड और सल्फ्यूरस एसिड के बीच अंतर
सल्फ्यूरिक एसिड और सल्फ्यूरस एसिड के बीच अंतर

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मुख्य अंतर – सल्फ्यूरिक एसिड बनाम सल्फ्यूरस एसिड

सल्फ्यूरिक एसिड (H2SO4) और सल्फ्यूरस एसिड (H2SO 3) तत्व के रूप में सल्फर, हाइड्रोजन और ऑक्सीजन युक्त दो अकार्बनिक अम्ल हैं। सल्फ्यूरिक एसिड और सल्फ्यूरस एसिड के बीच महत्वपूर्ण अंतर सल्फर की ऑक्सीकरण संख्या में है। इसके अलावा, जब हम अम्लता के संदर्भ में दो एसिड की तुलना करते हैं, तो सल्फ्यूरिक एसिड सल्फ्यूरिक एसिड की तुलना में अधिक अम्लीय होता है। दूसरे शब्दों में, सल्फ्यूरिक एसिड एक बहुत मजबूत एसिड है, और सल्फ्यूरस एसिड अपेक्षाकृत कमजोर है।

सल्फ्यूरिक एसिड क्या है?

सल्फ्यूरिक एसिड एक बहुत मजबूत डिप्रोटिक खनिज एसिड है जो किसी भी अनुपात में पानी के साथ पूरी तरह से गलत है।सल्फ्यूरिक अम्ल को जल में घोलना ऊष्माक्षेपी अभिक्रिया है। यह एक संक्षारक और हानिकारक तरल है और त्वचा या आंखों पर एसिड जलने जैसी कई चोटों का कारण बनता है। इसमें एसिड की सांद्रता और संपर्क समय के आधार पर अल्पकालिक और दीर्घकालिक दोनों प्रभाव शामिल हैं। कई कारकों के कारण सल्फ्यूरिक एसिड अत्यधिक संक्षारक होता है; अम्लता, ऑक्सीकरण क्षमता, सांद्र विलयनों के कारण निर्जलीकरण और ऊष्माक्षेपी अभिक्रिया से निकलने वाली ऊष्मा।

सल्फ्यूरिक एसिड और सल्फ्यूरस एसिड के बीच अंतर
सल्फ्यूरिक एसिड और सल्फ्यूरस एसिड के बीच अंतर

सल्फ्यूरस एसिड क्या है?

सल्फ्यूरस एसिड का रासायनिक सूत्र H2SO3 होता है, जहां सल्फर की ऑक्सीकरण संख्या +4 के बराबर होती है। यह एक स्पष्ट, रंगहीन, कमजोर और अस्थिर अम्ल है। इसमें तीखी जलती हुई गंधक की गंध होती है। यह तब बनता है जब सल्फर डाइऑक्साइड पानी में घुल जाता है और सल्फ्यूरस एसिड के शुद्ध निर्जल रूप को कभी अलग या पता नहीं लगाया जाता है।सल्फ्यूरस एसिड अपने रासायनिक घटकों में जल्दी से विघटित और अलग हो जाता है; चूंकि यह थर्मोडायनामिक रूप से अस्थिर है। अपघटन प्रतिक्रिया है,

H2SO3(aq) → H2O (l) + SO2 (छ)

मुख्य अंतर - सल्फ्यूरिक एसिड बनाम सल्फ्यूरस एसिड
मुख्य अंतर - सल्फ्यूरिक एसिड बनाम सल्फ्यूरस एसिड

सल्फ्यूरिक एसिड और सल्फ्यूरस एसिड में क्या अंतर है?

संरचना और रासायनिक सूत्र:

सल्फ्यूरिक एसिड: सल्फ्यूरिक एसिड का रासायनिक सूत्र H2SO4है जहां सल्फर की ऑक्सीकरण संख्या +6 है। इस अणु की ज्यामितीय संरचना चतुष्फलकीय है।

सल्फ्यूरस एसिड: सल्फ्यूरिक एसिड का रासायनिक सूत्र H2SO3है जहां सल्फर की ऑक्सीकरण संख्या +4 है। इस अणु की ज्यामितीय संरचना त्रिकोणीय पिरामिडनुमा है।

एसिडिटी:

सल्फ्यूरिक एसिड: सल्फ्यूरिक सबसे मजबूत एसिड में से एक है, और यह एक डिप्रोटिक एसिड है। सल्फ्यूरिक एसिड के एसिड पृथक्करण स्थिरांक हैं; K1=2.4×106(मजबूत एसिड) और K2=1.0×10 −2.

सल्फ्यूरस एसिड: पीएच पैमाने पर सल्फ्यूरस एसिड की अम्लता 1.5 के बराबर होती है। इसे बहुत मजबूत अम्ल नहीं माना जाता है, लेकिन यह बहुत कमजोर अम्ल भी नहीं है।

गुण:

सल्फ्यूरिक एसिड: सल्फ्यूरिक एसिड में अम्लीय गुणों के अलावा ऑक्सीकरण और अपचायक दोनों गुण होते हैं। इसलिए, यह धातु और अधातु दोनों के साथ प्रतिक्रिया करता है; यह हाइड्रोजन गैस और धातु के संबंधित नमक का उत्पादन करने वाली धातुओं के साथ अन्य एसिड के रूप में प्रतिक्रिया करता है।

धातुओं के साथ अभिक्रिया:

Fe (s) + H2SO4 (aq) → H2 (छ) + FeSO4 (aq)

Cu + 2 H2SO4 → SO2 + 2 H 2O + SO42− + Cu2+

अधातुओं के साथ अभिक्रिया:

C + 2 H2SO4 → CO2 + 2 SO 2 + 2 एच2

S + 2 H2SO4 → 3 SO2 + 2 H 2ओ

सल्फ्यूरस एसिड: सल्फ्यूरिक एसिड निर्जल रूप में सल्फ्यूरिक एसिड के घोल के रूप में मौजूद नहीं होता है। हालांकि, इस बात के प्रमाण हैं कि सल्फरस अणु गैसीय अवस्था में मौजूद होते हैं। विपरीत H2SO4, सल्फ्यूरस एसिड बहुत सीमित संख्या में रासायनिक प्रतिक्रियाओं को दर्शाता है।

CaCO3(s) + H2SO3(aq) → CO 2(g) + H2O(l) + CaSO3(aq)

उपयोग:

सल्फ्यूरिक एसिड: दुनिया भर में उद्योगों की एक विस्तृत श्रृंखला में सल्फ्यूरिक एसिड का व्यापक रूप से उपयोग किया जाता है। उदाहरण के लिए, इसका उपयोग उर्वरक, विस्फोटक, कागज, डिटर्जेंट, रंजक और रंग सामग्री के उत्पादन के लिए किया जाता है। इसके अलावा, यह रासायनिक संश्लेषण, सतह के उपचार, पेट्रोलियम और कपड़ा उद्योग में बहुत महत्वपूर्ण है।

सल्फ्यूरस एसिड: सल्फ्यूरस एसिड का उपयोग बहुत मजबूत कम करने वाले एजेंट के रूप में किया जाता है। इसमें कुछ ब्लीचिंग गुण होते हैं और इसे ब्लीचिंग एजेंट के रूप में उपयोग किया जाता है।

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